| 发明名称 |
PHOTOSETTING RESIST RESIN COMPOUND FOR NONELECTROLYTIC PLATING |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS6290998(A) |
申请公布日期 |
1987.04.25 |
| 申请号 |
JP19850219118 |
申请日期 |
1985.10.03 |
| 申请人 |
NIPPON SODA CO LTD;HITACHI LTD |
发明人 |
OZAKI KIYOSHI;MORI ATSUSHI;TSUDA HIDEO |
| 分类号 |
C23C18/16;C08F2/48;C08F290/00;C08F299/06;C09D11/00;C23C18/20;C23C18/31;C23C18/40;G03F7/027;H05K3/18 |
主分类号 |
C23C18/16 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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