发明名称 A-TIN SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要 Epitaxial thin layers of alpha -tin are grown by vapor phase epitaxy upon lattice-matched substrates of InSb or CdTe by the thermal decomposition of stannane. By using substrates of smaller lattice constant it is possible to modify the process to deposit alpha -tin germanium alloys.
申请公布号 GB2084396(B) 申请公布日期 1984.06.13
申请号 GB19800030268 申请日期 1980.09.18
申请人 STANDARD TELEPHONES & CABLES LTD 发明人
分类号 H01L31/0264;C30B25/02;H01L21/205;H01L31/10;H01S5/00 主分类号 H01L31/0264
代理机构 代理人
主权项
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