发明名称 CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF TITANIUM NITRIDE AND LIKE FILMS
摘要 Un nouveau procédé permet d'appliquer un film mince d'un nitrure de métal, par exemple du nitrure de titane, sur un substrat de verre (10) en mélangeant un halogénure métallique avec un gaz de réduction tel que l'ammoniac, de préférence dans une plage de température comprise entre 250oC et 320oC environ, puis en faisant réagir les gaz à la surface (18) d'un substrat de verre chauffé entre 400oC environ et 700o environ pour former le film sur le verre.
申请公布号 WO8402128(A1) 申请公布日期 1984.06.07
申请号 WO1983US01678 申请日期 1983.10.28
申请人 GORDON, ROY, GERALD 发明人 GORDON, ROY, GERALD
分类号 C03C17/22;C23C16/34;G02B1/10 主分类号 C03C17/22
代理机构 代理人
主权项
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