| 发明名称 |
POSITIVE TYPE RADIATION-SENSITIVE ORGANIC HIGHPOLYMER MATERIAL AND METHOD OF FORMING FINE PATTERN BY USING THE SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0096895(A3) |
申请公布日期 |
1984.05.16 |
| 申请号 |
EP19830105867 |
申请日期 |
1983.06.15 |
| 申请人 |
HITACHI, LTD. |
发明人 |
HATADA, KOICHI;YUKI, HEIMEI |
| 分类号 |
G03F7/039;(IPC1-7):G03F7/10 |
主分类号 |
G03F7/039 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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