| 发明名称 |
METHOD AND DEVICE FOR REACTIVE ION ETCHING |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS5976876(A) |
申请公布日期 |
1984.05.02 |
| 申请号 |
JP19820185449 |
申请日期 |
1982.10.22 |
| 申请人 |
TOSHIBA KK |
发明人 |
OKUMURA KATSUYA;WATANABE TOORU |
| 分类号 |
C23F4/00;C23F1/00;C23F1/08;H01L21/302;H01L21/306 |
主分类号 |
C23F4/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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