| 摘要 |
<P>L'INVENTION CONCERNE LA FABRICATION DES DISPOSITIFS ELECTRONIQUES.</P><P>LE PROCEDE DE L'INVENTION COMPREND LE DEPOT A BASSE TEMPERATURE D'UNE MATIERE A CONSTITUANTS MULTIPLES SUR UN SUBSTRAT 15 EN UTILISANT AU MOINS DEUX COURANTS DE PARTICULES BALISTIQUES 11, 19 QUI SONT DIRIGES DE FACON A SE RENCONTRER DANS UN VOLUME PROCHE DU SUBSTRAT. L'UN DES COURANTS DE PARTICULES 11 CONTIENT DES PARTICULES NEUTRES EXCITEES, ET L'AUTRE 19 CONSISTE ESSENTIELLEMENT EN PARTICULES CAPABLES DE REAGIR CHIMIQUEMENT AVEC LES PARTICULES NEUTRES EXCITEES. LES PARTICULES NEUTRES EXCITEES SONT PRODUITES DANS UNE SOURCE 13 QUI PEUT CONSISTER EN UN GENERATEUR DE PLASMA.</P><P>APPLICATION A LA FABRICATION DE CIRCUITS A TRES HAUT NIVEAU D'INTEGRATION.</P>
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