发明名称 |
CHELATING METALS. |
摘要 |
La chélation d'un métal tel que le plomb dans un électrolyte de sulfate aqueux permet d'obtenir la co-sédimentation du plomb avec de l'étain sur un substrat comprenant un élément métallique. La chélation est effectuée en formant un composé avec un agent de coordination. Les bornes électriques ainsi plaquées ne sont pas atteintes par des excroissances dendritiques. La chélation est effectuée par des agents bifonctionnels de coordination pouvant former un anneau à 5 ou 6 éléments avec le plomb. |
申请公布号 |
EP0103638(A1) |
申请公布日期 |
1984.03.28 |
申请号 |
EP19830901463 |
申请日期 |
1983.03.15 |
申请人 |
GSP METALS & CHEMICALS CORPORATION |
发明人 |
DRAZIN, SHEPARD;VAN ANTWERP, WILLIAM PETER |
分类号 |
C25D3/30;C25D3/34;C25D3/56;C25D3/60;H05K3/34;(IPC1-7):25D3/34;25D3/56;25D3/60 |
主分类号 |
C25D3/30 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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