发明名称 Bisarido compounds, light-sensitive compositions containing them and process for obtaining relief images.
摘要 Neue Bisazidoverbindungen der Formel I <IMAGE> worin X und Y die gleich oder verschieden sein können, O, S, SO2, N-R1 oder eine Bindung, m und n die gleich oder verschieden sein können, ganze Zahlen von 1 bis 8, mit der Maßgabe, daß die Summe von m + n nicht größer als 12 ist, Z eine Bindung oder, falls X und Y beide eine Bindung bedeuten oder m und n beide ungleich 1 sind, auch O, S, SO2 oder N-R1, oder, falls X und Y beide eine Bindung bedeuten, auch CO, gegebenenfalls in 2-Stellung durch eine Oxogruppe substituiertes 1,3-Cyclopentylen oder gegebenenfalls in 2-Stellung durch eine Oxogruppe und/oder in 5-Stellung durch Alkylmit 1 bis 6 C-Atomen substituiertes 1,3-Cyclohexylen, R und R' die gleich oder verschieden sein können, H, Halogen oder Alkyl mit 1 bis 6 C-Atomen und R1 H oder Alkyl mit 1 bis 6 C-Atomen bedeuten, mit der Maßgabe, daß -X-CmH2m-Z-CnH2nY- nicht -(CH2)2- oder -(CH2)3- bedeutet, weisen eine hohe Empfindlichkeit für fernes UV-Licht auf und eignen sich somit als lichtempfindliche Komponenten in negativ arbeitenden, für fernes UV-Licht empfindlichen Zusammensetzungen. Die mit Hilfe der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Zusammensetzungen fotolithographisch hergestellten Reliefstrukturen zeichnen sich durch hervorragende mechanische Eigenschaften aus und weisen eine hohe Auflösung auf. Sie eignen sich zur fotolithographischen Herstellung von miniaturisierten Schaltungen.
申请公布号 EP0103800(A2) 申请公布日期 1984.03.28
申请号 EP19830108727 申请日期 1983.09.05
申请人 MERCK PATENT GMBH 发明人 HAAS, GUENTHER, DR.;NEISIUS, KARL HEINZ, DR.
分类号 C07C67/00;C07C241/00;C07C247/16;C07C313/00;C07C317/32;C07C323/48;G03F7/008;G03F7/20;(IPC1-7):G03F7/10;C07C117/00;C07C147/06;C07C149/32 主分类号 C07C67/00
代理机构 代理人
主权项
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