发明名称 PROCESS FOR PRODUCING A PATTERNED RESIST IMAGE
摘要
申请公布号 EP0038967(B1) 申请公布日期 1984.03.07
申请号 EP19810102643 申请日期 1981.04.08
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人 KAPLAN, LEON H.;ZIMMERMAN, STEVEN MICHAEL
分类号 G03F7/022;G03F7/20;G03F7/26;G03F7/30;G03F7/36;H01L21/027;(IPC1-7):03F7/08 主分类号 G03F7/022
代理机构 代理人
主权项
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