| 发明名称 |
PREPARATION OF HYDROGEN-CONTAINING SILICON LAYER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS5935016(A) |
申请公布日期 |
1984.02.25 |
| 申请号 |
JP19820142104 |
申请日期 |
1982.08.18 |
| 申请人 |
KOGYO GIJUTSUIN (JAPAN) |
发明人 |
NAKAMURA NOBUO;SHIMADA JIYUICHI;MATSUBARA SUNAO;MURAMATSU SHINICHI;UTAKA MASATOSHI |
| 分类号 |
C23C14/14;C01B33/02;C01B33/021;C23C16/24;H01L21/20;H01L21/203;H01L21/205 |
主分类号 |
C23C14/14 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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