| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum mechanischen Abtragen von radioaktiv kontaminierten Oberflächenschichten kerntechnischer Anlagen. Mechanische, Schichten abtragende Dekontaminationsverfahren verursachen den Anfall von großen Mengen Sekundärwaste. Es wird ein Verfahren zum mechanischen Abtragen von radioaktiv kontaminierten Oberflächenschichten vorgeschlagen, das sich durch einen geringen Anfall von einfach aufzuarbeitendem Sekundärwaste auszeichnet. Dabei wird das mechanische Abtragen durch einen oder mehrere auf die Oberfläche des kontaminierten Gegenstandes gerichtete Hochgeschwindigkeitswasserstrahlen vorgenommen. Bei diesem Verfahren ist nur eine geringe Menge von Wasser als Schneidmedium notwendig, das außerdem ständig rezykliert wird. Die Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens weist eine mit einer oder mehreren Düsenkörpern (15) versehene Wasserstrahlvorrichtung (13) auf, die mit einer Hochdruckerzeugungseinrichtung (4) verbunden ist. Vor der Wasserstrahlvorrichtung (13) ist eine den zu bearbeitenden Gegenstand gesteuert bewegende Apparatevorschubvorrichtung (6) angeordnet.
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