DECONTAMINATION METHOD AND APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR WAFER HANDLING EQUIPMENT.

摘要

Procédé et dispositif (10) servant à la décontamination de certains types d'équipement de manipulation de tranches à semiconducteurs. Le dispositif (10) comprend un cadre (11) possédant une structure (21 ou 40) permettant d'appliquer à l'équipement de manipulation un fluide de décontamination et d'élimination des charges électrostatiques. Il comprend une première chambre (12) et une deuxième chambre (14). La première chambre (12) élimine les substances contaminantes de l'équipement de manipulation et isole dans la première chambre les substances contaminantes éliminées. La deuxième chambre (14) comprend une structure (29) de séchage de l'équipement de manipulation. Le dispositif comprend en outre une structure (40) permettant d'éliminer les charges statiques de l'équipement de manipulation séché.