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<p>Der wäßrig-alkalische Entwickler für bestrahlte strahlungsempfindliche negativ-arbeitende, gegebenenfalls ein organisches Bindemittel enthaltende Reproduktionsschichten ist auf der Basis von Wasser, einem anionischen Tensid, mindestens einem alkalisch-reagierenden anorganischen Salz und mindestens einer aliphatischen Dicarbonsäure oder einem ihrer Salze aufgebaut. Er enthält bei einem pH-Wert von 8 bis 12 a) 0,05 bis 10 Gew.-% eines Natrium-, Kalium- oder Lithiumsalzes des Schwefelsäureesters eines Alkanols von C7 bis C14, b) 0,001 bis 5 Gew.-% eines Natrium-, Kalium- oder Ammoniummetasilikats, c) 0,1 bis 15 Gew.-% eines Natrium-, Kalium-, Lithium- oder Ammoniumborats, d) 0,01 bis 5 Gew.-% einer Alkandisäure von C2 bis C6 oder eines ihrer Natrium-, Kalium- oder Ammoniumsalze, und e) 0,5 bis 12 Gew.-% eines Di- oder Trinatrium- oder -kaliumphosphats. Das Gewichtsverhältnis der Natrium- zu den Kaliumionen liegt im Entwickler im Bereich von 1 zu 1 bis 1,4 zu 1. Im Verfahren zum Entwickeln der genannten Reproduktionsschichten wird ebenfalls diese Komposition eingesetzt.</p> |
