| 发明名称 |
METHOD OF REDUCING COMPOUND LAYER ON SUBSTRATE AND USE OF SAME METHOD IN PRODUCTION OF FIELD EFFECT SEMICONDUCTOR STRUCTURE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS596547(A) |
申请公布日期 |
1984.01.13 |
| 申请号 |
JP19830114138 |
申请日期 |
1983.06.24 |
| 申请人 |
THOMSON CSF |
发明人 |
MISHIERU KUROZE;RUI MERUKANDARI |
| 分类号 |
H01L29/78;H01L21/306;H01L21/311;H01L21/316;H01L21/324;H01L29/51 |
主分类号 |
H01L29/78 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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