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经营范围
发明名称
ELECTRON BEAM EXPOSURE METHOD AND APPARATUS
摘要
申请公布号
EP0081283(A3)
申请公布日期
1984.01.04
申请号
EP19820305117
申请日期
1982.09.28
申请人
FUJITSU LIMITED
发明人
ARII, KATSUYUKI;KATOH, SHINYA;CHONAN, TSUNEHIRO
分类号
H01J37/317;(IPC1-7):G03F7/20
主分类号
H01J37/317
代理机构
代理人
主权项
地址
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