| 发明名称 |
PLASMA-ETCH RESISTANT MASK FORMATION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2121197(A) |
申请公布日期 |
1983.12.14 |
| 申请号 |
GB19820015431 |
申请日期 |
1982.05.26 |
| 申请人 |
* PHILIPS ELECTRONIC AND ASSOCIATED INDUSTRIES LIMITED |
发明人 |
JOSEPH * MEYER;DAVID JOHN * VINTON |
| 分类号 |
C23F4/00;G03F7/26;G03F7/40;(IPC1-7):G03C1/72;G03F1/00 |
主分类号 |
C23F4/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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