SPUTTERING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE AND SPUTTERING APPARATUS FOR THIS METHOD,申请号KR19950003021-传众专利搜索

发明名称	SPUTTERING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE AND SPUTTERING APPARATUS FOR THIS METHOD
摘要
申请公布号	KR0161390(B1)	申请公布日期	1999.02.01
申请号	KR19950003021	申请日期	1995.02.17
申请人	SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.	发明人	LEE, KI-HONG;JOO, SUK-HO;LEE, DUK-HYUNG;BAEK, CHUNG-YEUL
分类号	H01L21/203;(IPC1-7):H01L21/203	主分类号	H01L21/203
代理机构		代理人
主权项
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