| 摘要 |
Des pellicules de chalcogénide amorphe sensiblement exempt de substances particulaires et de micro-structures sont formées sur un substrat à partir d'une solution. La solution contient un composé de chalcogénide de formation de verre dissous dans un solvant vaporisable non aqueux, tel qu'une amine de faible poids moléculaire, et est sensiblement exempt de substances particulaires ou de matériaux cristallisables. La formation de la pellicule est obtenue en induisant le substrat de solution dans un environnement qui n'est pas soumis au vide, et en faisant ensuite évaporer le solvant du revêtement. Ce procédé est particulièrement utile dans la formation de couches de protection de chalcogénide amorphe pour des applications photolithographiques. |
