发明名称 萤光体图型之制造方法、形成萤光体图型用感光性构件、萤光体图型及电浆显示板用背面板
摘要 本发明系提供一种萤光体图型之制造方法,系被具有 P D P用基板等之凹凸之基板之阻隔层条壁面及基板底面所围成之凹部内面整体可形成良率佳之均匀膜厚之萤光体图型。本发明之萤光体图型之制造方法,其特征系具有以下(I)~(I V)各步骤:(I)具有凹凸之基板上依序形成(A)含有萤光体之感光性树脂组成物层及(C)含有微粒子之树脂层的步骤;(I I)将活性光线照射于(C)含有微粒子之树脂层及(A)含有萤光体之感光性树脂组成物层的步骤;(III)除去(C)含有微粒子之树脂层,藉由显影选择性除去(A)含有萤光体之感光性树脂组成物层,形成图型的步骤;(I V)藉由烧结除去有机成分的步骤。
申请公布号 TW460484 申请公布日期 2001.10.21
申请号 TW087120363 申请日期 1998.12.08
申请人 日立化成工业股份有限公司 发明人 佐藤和也;田仲裕之;野尻刚;田井诚司;川上广幸;岛村真理子;杉浦有美子
分类号 C08F20/20;C09K11/08;H01J9/227 主分类号 C08F20/20
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种萤光体图型之制造方法,其特征系含有以下 各步骤, (I)具有凹凸之基板上形成(A)含有萤光体之感光性 树脂组成物层及(C)含有微粒子之树脂层的步骤; (II)将活性光线照射于(C)含有微粒子之树脂层及(A) 含有萤光体之感光性树脂组成物层的步骤; (III)除去(C)含有微粒之树脂层,藉由显影以选择性 除去(A)含有萤光体之感光性树脂组成物层,形成固 型的步骤;及 (IV)藉由烧结除去有机成分的步骤。2.如申请专利 范围第1项之萤光体图型之制造方法,其中(I)之步 骤为使(A)层与前述具有凹凸之基板,接触的状态下 ,将由具有(C)含有微粒子之树脂层(A)含有萤光体之 感光性树脂组成物所构成之形成萤光体图型用感 光性元件层积(I")支持体薄膜上,在具有凹凸之基 板上形成前述(A)层及(C)层的步骤。3.如申请专利 范围第1或2项之萤光体图型之制造方法,其系重覆( I)-(III)的步骤,形成由含有产生红,绿及蓝色之萤光 体之感光性树脂组成物层所构成之多色图型后,实 施(IV)步骤形成多色之萤光体图型。4.如申请专利 范围第1或2项之萤光体图型之制造方法,其系重覆( I)-(IV)的步骤,形成产生红,绿及蓝色之萤光体图型 。5.如申请专利范围第1或2项之萤光体图型之制造 方法,其中(A)含有萤光体之感光性树脂组成物层为 含有(a)赋予薄膜性之聚合物,(b)具有乙烯性不饱和 基之光聚合性不饱和化合物,(c)藉由活性光照射产 生游离基之引发剂及(d)萤光体者,其中(C)含有微粒 子之树脂层为含有热塑性树脂者。6.一种形成萤 光体图型用感光性元件,其特征为在支持体薄膜上 具有(C)含有微粒子之树脂层,及(A)含有萤光体之感 光性树脂组成物层。7.如申请专利范围第6项之形 成萤光体图型用感光性元件,其中(A)含有萤光体之 感光性树脂组成物层为含有(a)赋予薄膜性之聚合 物,(b)具有乙烯性不饱和基之光聚合性不饱和化合 物,(c)藉由活性光照射产生游离基之引发剂及(d)萤 光体者,(C)含有微粒子之树脂层为含有热塑性树脂 者。8.一种萤光体图型,其特征系藉由申请专利范 围第1,2,3,4项或第5项之萤光体图型之制造方法所 制得。9.如申请专利范围第8项之萤光体图型,其系 用于电浆显示板用背面板。图式简单说明: 第一图系表示形成阻隔层条之PDP基板之一例之模 式图。 第二图系表示形成阻隔层条之PDP基板之一例之模 式图。 第三图系表示本发明之具有凹凸之基板之凹凸表 面上形成(A)含有萤光体之感光性树脂组成物层6之 状态的模式图。 第四图系表示萤光体图型之制造方法之各步骤之 一例之模式图。 第五图系表示凹部之开口宽度之模式图。 第六图系表示使光硬化之部分的模式图。 第七图系表示本发明之(II)步骤中,使用具有比凹 部之开口宽度更宽开口宽度之光罩7时之(III)的步 骤后之状态的模式图。 第八图系表示形成由(A)含有萤光体之感光性树脂 组成物层所构成之多色图型之状态的模式图。 第九图系表示形成多色之萤光体图型之状态的模 式图。 第十图系表示设置不含微粒子之层形成萤光体图 型之状态的模式图。 第十一图系表示本发明之电浆显示板用背面板之 一例之模式图。
地址 日本