POSITIVE-TYPE PHOTORESIST COATING LIQUID FOR PRODUCING LIQUID-CRYSTAL DEVICE AND SUBSTRATES USING THE SAME,申请号KR19990055807-传众专利搜索

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发明名称	POSITIVE-TYPE PHOTORESIST COATING LIQUID FOR PRODUCING LIQUID-CRYSTAL DEVICE AND SUBSTRATES USING THE SAME
摘要
申请公布号	KR100573243(B1)	申请公布日期	2006.04.24
申请号	KR19990055807	申请日期	1999.12.08
申请人		发明人
分类号	G03F7/004;G03F7/022;G03F7/039	主分类号	G03F7/004
代理机构		代理人
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