主权项 |
1.一种光波导,系针对由芯层和包覆层的接合体所 形成,并构成可以将进入前述芯层的入射光,导引 至其光射出侧之形态的光波导,其特征为: 用来防止进入前述包覆层的入射光传递至光射出 侧之 光传递防止手段,系被形成会遮蔽前述包覆层的光 透过剖面之图案。 2.如申请专利范围第1项所述的光波导,其中前述光 传递防止手段,系在前述包覆层的宽度方向及厚度 方向中的对向边之间、或是在对角线上,贯通而延 伸。 3.如申请专利范围第1项所述的光波导,其中前述光 传递防止手段,系部分地被设置在前述包覆层的宽 度方向及厚度方向中的对向边之间、或是对角线 上。 4.如申请专利范围第3项所述的光波导,其中部分地 被设置之前述光传递防止手段,系由:自前述对向 边或前述对角的双方开始,分别延伸的第1连续层; 及被设置在比前述对向边更内侧的区域之第2连续 层所组成; 前述第1及第2连续层,系被配置成:相对于光传递方 向,可以互相重覆。 5.如申请专利范围第1项所述的光波导,其中前述光 传递防止手段,系被埋入前述包覆层中,实际上没 有存在于与前述芯层之间的界面。 6.如申请专利范围第1项所述的光波导,其中前述芯 层被设置复数个,这些芯层在光射出侧合流,构成 使得各入射光可以被合波。 7.如申请专利范围第6项所述的光波导,其中前述光 传递防止手段,至少被设置在比前述复数芯层的合 流点更往光射出侧的位置。 8.如申请专利范围第1项所述的光波导,其中前述芯 层,被形成在前述包覆层上。 9.如申请专利范围第1项所述的光波导,其中另外的 包覆层,被形成在前述芯层上。 10.如申请专利范围第9项所述的光波导,其中在前 述另外的包覆层中,也设有申请专利范围第1、2、3 、4、5、6或7项所记载的光传递防止手段。 11.如申请专利范围第1项所述的光波导,其中前述 光传递防止手段,系由具有光吸收性及/或光反射 性的金属、半金属或半导体所构成。 12.一种光源模组,其特征为具有: 申请专利范围第1、2、3、4、5、6、7、8、9、10或11 项所述的光波导;及将光入射至此光波导中之光源 。 13.如申请专利范围第12项所述的光源模组,其中前 述光源为发光二极体或雷射光。 14.一种光资讯处理装置,其特征为具有: 申请专利范围第1、2、3、4、5、6、7、8、9、10或11 项所述的光波导;将光入射至此光波导中之光源; 及接收自前述光波导来的射出光之受光手段。 15.如申请专利范围第14项所述的光资讯处理装置, 其中利用扫描手段使前述射出光扫描,而构成进行 投影的显示器 图式简单说明: 第1图系根据本发明的第1实施形态的光波导的剖 面图(A)、平面图(B)及背面图(C)。 第2图系该光波导的A-A'线剖面图(A)及其平面图(B) 。 第3图系依序地表示该光波导的制作过程的剖面图 。 第4图系依序地表示该光波导的制作过程的剖面图 。 第5图系依序地表示该光波导的制作过程的平面图 。 第6图系依序地表示该光波导的制作过程的平面图 。 第7图系依序地表示该光波导的制作过程的平面图 。 第8图系表示该光波导的制作过程的剖面图。 第9图系另外的光波导的平面图。 第10图系其他例子的光波导的平面图。 第11图系根据本发明的第2实施形态的光波导的剖 面图(A)及其平面图(B)。 第12图系依序地表示该光波导的制作过程的剖面 图。 第13图系根据本发明的第3实施形态的光波导的平 面图。 第14图系另外的光波导的平面图。 第15图系其他的光波导的平面图。 第16图系根据本发明的实施形态的头戴式显示器 的概略模式图。 第17图系表示该头戴式显示器的应用例的斜视图 。 第18图系该头戴式显示器的斜视图。 第19图系根据其他例子的光波导的剖面图(A)及其 背面图(B)。 第20图系进而根据其他例子的光波导的剖面图(A) 及(B)。 第21图系进而根据其他例子的光波导的剖面图(C) 。 第22图系进而根据其他例子的光波导的平面图(A) 及(B)。 第23图系进而根据其他例子的光波导的平面图(A) 及(B)。 第24图系进而根据其他例子的光波导的平面图(A) 及(B)。 第25图系金属层的剖面图。 第26图系依序地表示进而根据其他的例子的光波 导的制作过程的剖面图。 第27图系表示进而根据其他的例子的光波导的制 作过程的剖面图。 第28图系依序地表示进而根据其他的例子的光波 导的制作过程的剖面图。 第29图系依序地表示进而根据其他的例子的光波 导的制作过程的剖面图。 第30图系依序地表示进而根据其他的例子的光波 导的制作过程的剖面图。 第31图系依序地表示进而根据其他的例子的光波 导的制作过程的剖面图。 第32图系依序地表示进而根据其他的例子的光波 导的制作过程的剖面图。 第33图系依序地表示进而根据其他的例子的光波 导的制作过程的剖面图。 第34图系依序地表示进而根据其他的例子的光波 导的制作过程的剖面图。 第35图系依序地表示进而根据其他的例子的光波 导的制作过程的剖面图。 第36图系表示进而根据其他的例子的光波导的剖 面图(A)、(B)及(C)。 第37图系表示进而根据其他的例子的光波导的剖 面图(A)、(B)及(C)。 第38图系进而根据其他例子的光波导的平面图。 第39图系根据习知例的光波导的斜视图(A)、其剖 面图(B)及其侧面图(C)。 第40图系根据其他习知例的光波导的剖面图。 第41图系进而根据其他的习知例的光波导的斜视 图。 |