| 发明名称 | 光刻装置和一种补偿光刻装置中热变形的方法 | ||
| 摘要 | 一种光刻装置包括：受到热载荷的元件、用于补偿光刻装置中由热载荷造成的元件变形的热变形补偿装置，该热变形补偿装置包括：至少一个用于感测元件上至少一个位置处的温度传感器、用于计算元件由热载荷造成的作为在该位置处所感测到的温度函数的形变量的处理装置，其中使用来自由计算机生成的该元件模型的数据计算形变量，使得可进行适当修正或适当修正可考虑到光刻装置中的变形。 | ||
| 申请公布号 | CN100470369C | 申请公布日期 | 2009.03.18 |
| 申请号 | CN200410068656.3 | 申请日期 | 2004.09.03 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | D·J·P·A·弗兰肯;W·J·博西 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 1. 一种光刻装置，包括：受到热载荷的元件(4)、用于补偿光刻装置中由热载荷造成的元件变形的热变形补偿装置，该热变形补偿装置包括：至少一个用于感测元件上至少一个位置处的温度传感器、用于计算由热载荷造成的作为在该位置处所感测到的温度函数的元件形变量的处理装置，其中使用来自由计算机生成的该元件模型的数据计算形变量，使得可进行适当修正或可考虑对光刻装置中的变形的适当修正，其特征在于：所述元件(4)为支架。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||