发明名称 SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
摘要 본 발명은 러빙 처리에서 생길 수 있는 불소 이온의 영향을 받아 생긴 오염 성분을 효과적으로 제거할 수 있는 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치를 제공하는 것을 과제로 한다. 액정 표시 패널에 이용되는 러빙 처리된 기판을 처리하는 기판 처리 방법으로서, 물에 적어도 질소 가스를 포함하는 가스를 용해시켜 이루어진 질소 가스 용해수에 의해 상기 기판을 세정하는 제1 공정(11)을 포함하고, 상기 질소 가스 용해수의 온도는 40℃ 이상 80℃ 이하의 범위내로 조정되는 구성이 된다.
申请公布号 KR101640669(B1) 申请公布日期 2016.07.18
申请号 KR20140126670 申请日期 2014.09.23
申请人 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤 发明人 오모리 게이고;이소 아키노리;이마오카 유이치;데시마 리에
分类号 G02F1/13 主分类号 G02F1/13
代理机构 代理人
主权项
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