发明名称 Method for the electrophoretic deposition of radiation-sensitive coatings on metallic bases, and use of the coated material as an offset printing plate.
摘要 <p>Das Verfahren zur ein- oder beidseitigen Beschichtung von Metallträgermaterialien mit einer Reproduktionsschicht wird in zwei Stufen durchgeführt: a) die Oberfläche des Metallträgers wird in einem wäßrigen Elektrolyten zur Erzeugung einer hydrophilen Zwischenschicht elektrochemisch behandelt, b) die hydrophilierte Oberfläche wird elektrophoretisch strahlungsempfindlich beschichtet. In der Stufe a) enthält der wäßrige Elektrolyt mindestens eine wasserlösliche Verbindung aus der Gruppe der Sulfon-, Phosphon- oder mindestens dreibasischen Carbonsäuren, der noch mindestens eine saure funktionelle Gruppe aufweisenden Phosphorsäureester oder der Alkali- und Ammoniumsalze dieser Säuren oder Ester (z. B. Polyvinylphosphonsäure oder Phytinsäure). In der Stufe b) enthält der wäßrige Elektrolyt mindestens eine wasserlösliche oder in Wasser dispergierbare strahlungsempfindliche Verbindung (z. B. ein Diazoniumsalz-Polykondensat) und gegebenenfalls ein wasserlösliches oder in Wasser dispergierbares Bindemittel. Bevorzugte Verwendung findet ein so beschichtetes Material als Offsetdruckplatte.</p>
申请公布号 EP0089509(A1) 申请公布日期 1983.09.28
申请号 EP19830101812 申请日期 1983.02.24
申请人 AMERICAN HOECHST CORPORATION 发明人 WALLS, JOHN E.;DUNDER, THOMAS A.
分类号 C25D11/10;B41N1/08;B41N3/03;C25D13/04;C25D13/06;C25D13/20;G03F7/16;(IPC1-7):41N1/08;25D13/04 主分类号 C25D11/10
代理机构 代理人
主权项
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