| 发明名称 |
LIQUID SURFACE CONTROL DEVICE FOR RADIOACTIVE LIQUID WASTE PROCESSING PLANT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS58154699(A) |
申请公布日期 |
1983.09.14 |
| 申请号 |
JP19820036529 |
申请日期 |
1982.03.10 |
| 申请人 |
TOKYO SHIBAURA DENKI KK |
发明人 |
OOHASHI HIDEAKI;YANAI TETSUO |
| 分类号 |
G21F9/04;G21F9/06;G21F9/22 |
主分类号 |
G21F9/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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