| 发明名称 |
METHOD OF TREATING WASTE GAS IN CASE OF MANUFACTURE OF SILICON |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS58133586(A) |
申请公布日期 |
1983.08.09 |
| 申请号 |
JP19820013389 |
申请日期 |
1982.02.01 |
| 申请人 |
FUJI SHASHIN FILM KK |
发明人 |
SAITOU MITSUO;KAWAJIRI KAZUHIRO |
| 分类号 |
F25J3/08;B01D53/26;F25J1/00 |
主分类号 |
F25J3/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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