PROCEDE DE FABRICATION DES ALLIAGES ET DES DISPOSITIFS AMORPHES PHOTOSENSIBLES PAR DEPOT DE PHASE CHIMIQUE

摘要

UN PLASMA REACTIF EST FORME ENTRE UNE CIBLE EN UN MATERIAU A PHASE SOLIDE 44 COMPRENANT AU MOINS UN ELEMENT A INCORPORER DANS LE CORPS DE L'ALLIAGE A FABRIQUER ET UN SUBSTRAT 28 ECARTE DE LA CIBLE 44. LE PLASMA EST FORME A PARTIR D'UN GAZ COMPRENANT AU MOINS DU FLUOR OU UN COMPOSE COMPRENANT DU FLUOR. LE PLASMA RETIRE L'ELEMENT DE LA CIBLE 44 LEQUEL REAGIT AVEC LE FLUOR DU PLASMA ET EST DEPOSE SUR LE SUBSTRAT 28 EN MEME TEMPS QUE LE FLUOR POUR FORMER LE CORPS DE L'ALLIAGE. ON PEUT CONTROLER LE TAUX DE DEPOT PAR L'INTRODUCTION D'OXYGENE DANS LE PLASMA 62, 64, 60 ET LE TAUX DE RETRAIT DE L'ELEMENT PAR L'INTRODUCTION D'HYDROGENE 62, 64, 60). LE TAUX DE DEPOT PEUT EGALEMENT ETRE CONTROLE EN FAISANT VARIER LA POLARISATION DE LA CIBLE (EN 53).