发明名称 UN APARATO PARA EXPONER UN MEDIO FOTOSENSIBLE A LA LUZ DE UNA PLURALIDAD DE LONGITUDES DE ONDA DISTINTAS PARA PRODUCIR UN DISENO IMPRESIONADO EN EL ELEMENTO.
摘要 <p>DISPOSITIVO DE LITOGRAFIA OPTICA. CONSTA DE UNA FUENTE DE LUZ (10) CONSISTENTE EN UN LASER PULSANTE EXCIMERICO DE HALURO DE GAS RARO, QUE PRODUCE LUZ DE UNA LONGITUD DE ONDA FUNDAMENTAL, AL MENOS. LA SALIDA DE LA FUENTE DE LUZ (10) ES DIRIGIDA POR UN SISTEMA OPTICO (12), A FIN DE IMPRESIONAR UN MEDIO FOTOSENSIBLE (16) EXPUESTO, DE RESINA NOVOLACA SENSIBILIZADA. COMO ALTERNATIVAS DE LA PRESENTE INVENCION, SE ENCUENTRAN EMPLEAR MEZCLAS DE VARIOS GASES EXCIMEROS, Y DIRIGIR LA SALIDA DE LA FUENTE DE LUZ A UNA CELULA DE RAMAN.</p>
申请公布号 ES8304673(A1) 申请公布日期 1983.06.01
申请号 ES19220005124 申请日期 1982.05.21
申请人 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION 发明人
分类号 H01L21/027;G03F7/20;H01L21/30;H01S3/30;(IPC1-7):03C5/16;01S3/02 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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