发明名称 HALFGELEIDERINRICHTING MET EEN OP HET HALFGELEIDERLICHAAM AANGEBRACHTE ISOLERENDE LAAG VAN SILICIUMDIOXYDE EN EEN BESCHERMENDE LAAG VAN SILICIUMCARBIDE.
摘要 A semiconductor device comprising a semiconductor substrate and protective films formed thereon. The protective films comprise at least one silicon carbide film which may be pure or may contain particular impurities.
申请公布号 NL171944(C) 申请公布日期 1983.06.01
申请号 NL19760014307 申请日期 1976.12.23
申请人 TOKYO SHIBAURA ELECTRIC CO., LTD. TE KAWASAKI, JAPAN. 发明人
分类号 H01L21/314;H01L23/29;H01L23/31;(IPC1-7):H01L23/28;H01L21/31;H01L29/12 主分类号 H01L21/314
代理机构 代理人
主权项
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