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<p>METODO PARA PREPARAR UNA ALEACION AMORFA FOTOSENSIBLE. CARACTERIZADO PORQUE COMPRENDE EL DEPOSITAR SOBRE UN SUSTRATO, MEDIANTE DEPOSICION A VACIO, UN MATERIAL QUE INCLUYE POR LO MENOS SILICIO; PORQUE INCORPORA UN ELEMENTO REDUCTOR DE LA DENSIDAD DE ESTADOS, SIENDO DICHO ELEMENTO EL FLUOR, MEDIANTE REACCION DEL CITADO MATERIAL QUE INCLUYE SILICIO CON UNA DEPOSICION A VACIO, CON LA CONDICION DE QUE SE HA DE INTRODUCIR POR LO MENOS UN ELEMENTO DE INCREMENTO DE INTERVALO DE BANDA; PORQUE DICHO ELEMENTO DE INCREMENTO ES CARBONO O NITROGENO; PORQUE LA DEPOSICION A VACIO PUEDE SER UNA DEPOSICION CON VAPOR, UNA DEPOSICION DE CHISPA O UNA DEPOSICION MEDIANTE DESCARGA LUMINISCENTE; Y PORQUE LA ALEACION SE DEPOSITA CON UNA REGION FOTOSENSIBLE ACTIVA. DE APLICACION EN LA FABRICACION DE CELULAS SOLARES Y FOTODIODOS.</p> |
