DISPOSITIF DE LITHOGRAPHIE PAR FAISCEAU D'ELECTRONS A PLATINE MOBILE ET A BALAYAGE PAR TRAME EMPLOYANT UN CIRCUIT DE CORRECTION APPROXIMATIVE

摘要

L'INVENTION CONCERNE LA TECHNIQUE DE LITHOGRAPHIE PAR FAISCEAU D'ELECTRONS.

UN DISPOSITIF DE LITHOGRAPHIE PAR FAISCEAU D'ELECTRONS DE TYPE HYBRIDE, A PLATINE MOBILE 11 ET A BALAYAGE PAR TRAME, UTILISE UN CIRCUIT QUI CORRIGE DE FACON APPROXIMATIVE LES ELEMENTS DE DEFLEXION DU FAISCEAU D'ELECTRONS PROJETE SUR UNE TRANCHE OU UN MASQUE 10 A EXPOSER. LA CORRECTION EST EFFECTUEE SUR LA BASE DE DISTORSIONS REPETITIVES OBSERVEES. LA POSITION DU FAISCEAU EST AINSI CORRIGEE POUR DIVERS MODES DE DISTORSION DU BALAYAGE PAR TRAME.

APPLICATION A LA FABRICATION DES CIRCUITS INTEGRES.