REREGISTRATION SYSTEM FOR A CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM.

摘要

Systeme de rereperage permettant de determiner l'emplacement et de positionner la surface cible d'un substrat de tranche (275) par rapport a une pluralite de rayons de particules chargees utilisees pour ecrire directement le schema d'un circuit integre simultanement a une pluralite d'emplacements sur le substrat. Le rereperage est execute en explorant avec deux ou plusieurs rayons de particules chargees (100, 150) un nombre correspondant de reperes fiduciels de re-reperage (200, 250) sur le substrat (275). Ces reperes (200, 250) peuvent se composer d'un materiau possedant un nombre atomique eleve ou des caracteristiques topographiques definies au prealable. Des electrons disperses par ces reperes (200, 250) sont detectes et convertis en signaux electriques. La relation temporelle entre les rayons d'exploration (100, 150) et les signaux electriques resultants peut etre utilisee pour determiner l'emplacement du substrat.