发明名称 PROCEDE ET DISPOSITIF D'ELECTRODEPOSITION
摘要 <P>PROCEDE ET DISPOSITIF D'ELECTRODEPOSITION UTILISANT UN RECIPIENT HERMETIQUE 2 POUR RECEVOIR UNE PIECE A TRAITER 1. UNE SOLUTION D'ELECTRODEPOSITION 3 CIRCULE DANS LA REGION D'UN INTERVALLE ENTRE UNE ANODE 10 ET UNE SURFACE CONDUCTRICE 4 SUR LA PIECE POUR PERMETTRE AU COURANT D'ELECTRODEPOSITION DE FORTE DENSITE DE COURANT EN PROVENANCE D'UNE SOURCE DE COURANT 24 D'ETRE APPLIQUE DANS L'INTERVALLE POUR EFFECTUER UN DEPOT ELECTRIQUE DE METAL DE LA SOLUTION AU MOINS DE FACON PREDOMINANTE SUR UNE ZONE LIMITEE DE LA SURFACE DE LA PIECE JUXTAPOSEE A UNE FACE ACTIVE 10A DE L'ANODE, TOUT EN PERMETTANT AUX GAZ ELECTROLYTIQUEMENT PRODUITS DANS L'INTERVALLE D'ETRE RECUEILLIS, AVEC DES BUEES SE DEGAGEANT DE LA SOLUTION, DANS UNE ENCEINTE ETANCHE 28 DANS LE RECIPIENT. L'ANODE ET LA PIECE SONT DEPLACEES L'UNE PAR RAPPORT A L'AUTRE POUR PERMETTRE A LA FACE DE L'ELECTRODE ACTIVE DE BALAYER LA SURFACE DE LA PIECE POUR RENDRE MAXIMAUX LE RENDEMENT ET LES CARACTERISTIQUES DE L'ELECTRODEPOSITION. UNE POMPE D'ASPIRATION 30 ASPIRE L'EFFLUENT GAZEUX RECUEILLI DANS L'ENCEINTE 28 DU RECIPIENT 2 PAR UN CONDUIT DE SORTIE 29.</P>
申请公布号 FR2511706(A1) 申请公布日期 1983.02.25
申请号 FR19820014349 申请日期 1982.08.19
申请人 INOUE JAPAX RESEARCH INC 发明人 KIYOSHI INOUE
分类号 C25D1/10;C25D5/04;C25D17/00;H05K3/24;(IPC1-7):25D3/02;25D19/00 主分类号 C25D1/10
代理机构 代理人
主权项
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