Developing solution for positive-acting radiation-sensitive reproduction layers.

摘要

Die Erfindung beschreibt eine wäßrig-alkalische Entwicklerlösung für positiv-arbeitende strahlungsempfindliche Reproduktionsschichten, wie sie z.B. für Offsetdruckplatten und Fotoresists verwendet werden. Diese Entwicklerlösung enthält mindestens eine organische Lithiumverbindung und Natriummetasilikat.