发明名称 |
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摘要 |
PURPOSE:To develop an electronic beam resist exposed by an electronic beam by making use of a chemical reaction of alcoholic gas plasma. |
申请公布号 |
JPS588576(B2) |
申请公布日期 |
1983.02.16 |
申请号 |
JP19760026728 |
申请日期 |
1976.03.12 |
申请人 |
MITSUBISHI ELECTRIC CORP |
发明人 |
KATO TADAO;TOYODA HIROYASU |
分类号 |
G03F7/36;H01L21/027;H01L21/302 |
主分类号 |
G03F7/36 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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