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<P>LA PRESENTE INVENTION CONCERNE UNE COMPOSITION A ACTION DIRECTE, SENSIBLE AUX RADIATIONS ET AUX SOLUTIONS AQUEUSES ALCALINES, COMPRENANT UN MELANGE DE :</P><P>I.AU MOINS UNE RESINE NON ACIDE, SENSIBLE AUX SOLUTIONS AQUEUSES ALCALINES,</P><P>II.AU MOINS UN COMPOSANT A ACTION DIRECTE, SENSIBLE AUX RADIATIONS, QUI ENGENDRE DES PRODUITS ACIDES SOUS L'EFFET D'UNE IRRADIATION,</P><P>III.AU MOINS UNE MATIERE TINCTORIALE, SENSIBLE AUX ACIDES QUI, LORSQU'ELLE EST EN CONTACT AVEC LE PRODUIT ENGENDRE PAR L'IRRADIATION DU COMPOSANT II, SE DETEINT AU MOINS PARTIELLEMENT,CETTE COMPOSITION ETANT TELLE QU'ELLE SE DETEINT AU MOINS PARTIELLEMENT SOUS L'EFFET D'UNE IRRADIATION.</P><P>ELLE CONCERNE EGALEMENT UN ELEMENT CONSTITUE D'UN SUBSTRAT DONT L'UNE AU MOINS DES SURFACES EST REVETUE DE LA COMPOSITION SUSMENTIONNEE.</P><P>L'INVENTION EST UTILISEE POUR LA REALISATION DE PLAQUES LITHOGRAPHIQUES.</P>
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