| 摘要 |
<p>PROCEDIMIENTO PARA SEPARAR ELECTROLITICAMENTE DEPOSITOS ELECTROLITICOS METALICOS DE SUBSTRATOS. SE SUMERGE EL OBJETO A LIMPIAR EN UNA SOLUCION ACUOSA QUE CONTIENE UN COMPUESTO HALOGENO; UN COMPONENTE DE SEPARACION FORMADO POR UNA AMINA Y/O UN NITRATO INORGANICO; UN AGENTE DE INHIBICION PARA IMPEDI EL ATAQUE DEL SUBSTRATO; Y UN COMPONENTE SOLUBLE QUE CONSISTE EN UN TIOCIANATO, UN OXALATO O UNA MEZCLA DE AMBOS. EL OBJETO SE CONECTA AL ANODO Y SE HACE PASAR UNA CORRIENTE A TRAVES DE LA SOLUCION PARA QU SE PRODUZCAN REACCIONES DE OXIDACION DE LOS DEPOSITOS ELECTROLITICOS. LA TEMPERATURA DEL BAÑO SE MANTIENE DURANTE EL PROCESO ENTRE 15,5 Y 65,5<025>C. >DE APLICACION EN LA INDUSTRIA DE LA GALVANOPLASTIA.</p> |
