| 发明名称 |
METHOD OF BONDING METAL AND SILICON WITH LOW PRESSURE CVD TO FORM METAL SILICIDE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS5817615(A) |
申请公布日期 |
1983.02.01 |
| 申请号 |
JP19820118704 |
申请日期 |
1982.07.09 |
| 申请人 |
FAIRCHILD CAMERA & INSTRUMENT CORP |
发明人 |
UIRIAMU AI REERAA |
| 分类号 |
H01L21/205;H01L21/28;H01L21/285 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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