发明名称 |
AN ELECTROLESS COPPER PLATING PROCESS |
摘要 |
Copper is electrolessly deposited on a surface wherein the dissolved oxygen content is maintained between 2 and 4 ppm in the plating bath. |
申请公布号 |
DE2964079(D1) |
申请公布日期 |
1982.12.30 |
申请号 |
DE19792964079 |
申请日期 |
1979.02.14 |
申请人 |
INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION |
发明人 |
ALPAUGH, WARREN ALAN;ZUCCONI, THEODORE DANIEL |
分类号 |
H05K3/18;C23C18/30;C23C18/31;C23C18/40;(IPC1-7):C23C3/02 |
主分类号 |
H05K3/18 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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