发明名称 |
EXPOSURE METHOD FOR CHEMICALLY MACHINABLE PHOTOSENSITIVE GLASS |
摘要 |
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申请公布号 |
JPS57200042(A) |
申请公布日期 |
1982.12.08 |
申请号 |
JP19810083843 |
申请日期 |
1981.06.02 |
申请人 |
HOYA GLASS:KK |
发明人 |
FUJITA YOSHIMI;YAMASHITA TOSHIHARU |
分类号 |
G03B27/02;C03B33/00;C03C15/00;C03C23/00;G03B27/04;G03F7/20;H01J17/49 |
主分类号 |
G03B27/02 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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