Process and device for interferometric evenness measurement.

摘要

Zur interferometrischen Strukturuntersuchung einer Oberfläche (23) werden zwei Strahlenbündel (21 bzw. 22) mit ebenen Wellenfronten verwendet, die unter sich einen kleinen Winkel (ϑ) einschließen. In das Interferenzfeld, das bei Überlagerung der beiden reflektierten Strahlenbündel entsteht, wird ein Gitter (24) gebracht, dessen Gitterabstand in der Größenordnung der Abstände der Interferenzlinien liegt. Die Linien des vom reflektierten Licht nach Durchtritt durch das Gitter erzeugten Musters stellen Linien gleicher Oberflächenneigung dar (erste Ableitung der Oberfläche), die Abstände zwischen den Linien sind der zweiten Ableitung der Oberfläche proportional. Oberflächenkrümmungen können daher mit großer Genauigkeit festgestellt werden. Die beiden Strahlenbündel (21, 22) können durch Reflexion der ebenen Wellenfronten eines Lasers (10) an Vorder- und Rückseite eines Prismas (15) mit sehr kleinem Scheitelwinkel oder mit einem Doppelspiegel erzeugt werden. Die Auswertung des Linienmusters kann visuell oder mit fernsehtechnischen Mitteln auch automatisch erfolgen.