METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN,申请号KR19950050640-传众专利搜索

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发明名称	METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
摘要
申请公布号	KR0157922(B1)	申请公布日期	1999.02.01
申请号	KR19950050640	申请日期	1995.12.15
申请人	LG SEMICONDUCTOR CO., LTD.	发明人	HWANG, YOUNG-JOO;KANG, CHAN-HO
分类号	H01L21/312;(IPC1-7):H01L21/312	主分类号	H01L21/312
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