光阻移除组成

摘要

本发明揭示一种光阻聚合物移除剂组合物，用以移除因蚀刻或灰化子处理所产生之光阻残余物。所揭示的该光阻聚合物移除剂组合物包括：(a)基于该组合物之总重量的5％至15％之硫酸、(b)基于该组合物之总重量的1％至5％之过氧化氢或0.0001％至0.05％之臭氧、(c)基于该组合物之总重量的0.1％至5％之醋酸、(d)基于该组合物之总重量的0.0001％至0.5％之氟化铵及(e)剩余水量。