发明名称 投影光学系统、曝光装置以及曝光方法
摘要 一种投影光学系统,例如使用ArF准分子雷射光,在避免对含有萤石的高频波成分其折射率的散射与固有复折射的影响的同时,也可以确保良好的长时稳定成像性能。将第1面(R)的缩小像形成于第2面(W)上的投影光学系统。在最靠近第2面的一侧配置有约无折射力的第1透光部材(L23)。当该第1透光部材与该第2面之间的光轴其距离为WD,且第2面的数值孔径为NA,使用光的中心波长为L×10^-6时,满足0.06<WD×NA/L<0.23的条件。或是,具有在最靠近第2面的一侧配置有约无折射力的第1透光部材,以及邻接于第1面侧所配置的第2透光部材(L22)。当沿着该第2透光部材到该第2面的空气换算长为OD,其满足0.1<OD×NA/L<0.4的条件。
申请公布号 TW200422790 申请公布日期 2004.11.01
申请号 TW093106922 申请日期 2004.03.16
申请人 尼康股份有限公司 发明人 大村泰弘
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 日本