| 主权项 |
1.一种投影系统,包括: 一光源模组,系包含: 一反射罩,具有一开口;以及 一光源,系设置于该反射罩中,以形成一第一光束 自该开口射出该反射罩;以及 一光导管组件,接收该第一光束以形成一第二光束 ,该光导管组件包含: 一本体,具有一入射端;以及 一主透镜,设置于该入射端。 2.如申请专利范围第1项所述之投影系统,该第一光 束具有一第一F値,该第一光束经过该主透镜形成 该第二光束,该第二光束具有一第二F値,其中,该第 二F値系不等于该第一F値。 3.如申请专利范围第2项所述之投影系统,其中,该 第二F値系大于该第一F値。 4.如申请专利范围第3项所述之投影系统,其中,该 反射罩系为一椭球型反射罩,该光源系设置于该椭 球型反射罩之一第一焦点上。 5.如申请专利范围第4项所述之投影系统,其中,该 主透镜为一凸透镜并设置于该椭球型反射罩之一 第二焦点后。 6.如申请专利范围第4项所述之投影系统,其中,该 主透镜为一凹透镜并设置于该椭球型反射罩之一 第二焦点前。 7.如申请专利范围第3项所述之投影系统,其中,该 反射罩系为一抛物型反射罩,该光源系设置于该抛 物型反射罩之一第三焦点上,且该光源模组更包含 一聚焦透镜设置于该抛物型反射罩之该开口上。 8.如申请专利范围第7项所述之投影系统,其中,该 主透镜为一凸透镜并设置于该聚焦透镜之一第四 焦点后。 9.如申请专利范围第7项所述之投影系统,其中,该 主透镜为一凹透镜并设置于该聚焦透镜之一第四 焦点前。 10.如申请专利范围第1项所述之投影系统,其中,该 主透镜一球面透镜。 11.如申请专利范围第1项所述之投影系统,其中,该 主透镜为一非球面透镜。 12.一种光导管组件,系用于一投影系统中,该光导 管组件接收一第一光束并转换成一第二光束,该光 导管组件包含: 一本体,具有一入射端;以及 一主透镜,设置于该入射端。 13.如申请专利范围第12项所述之光导管组件,该第 一光束具有一第一F値,该第一光束经过该主透镜 形成该第二光束,该第二光束具有一第二F値,其中, 该第二F値系不等于该第一F値。 14.如申请专利范围第13项所述之光导管组件,其中, 该第二F値系大于该第一F値。 15.如申请专利范围第12项所述之光导管组件,其中, 该主透镜为一凸透镜。 16.如申请专利范围第12项所述之光导管组件,其中, 该主透镜为一凹透镜。 17.如申请专利范围第12项所述之光导管组件,其中, 该主透镜一球面透镜。 18.如申请专利范围第12项所述之光导管组件,其中, 该主透镜为一非球面透镜。 图式简单说明: 第1图表示习知光学投影系统。 第2A图为一成像装置(20a)之立体图。 第2B图为根据第2A图之成像装置(20a)之分解立体图 。 第3A图表示根据本发明之第一实施例中之一投影 系统(M)及其光导管组件(1)之示意图,其中,光导管 组件(1)包括一本体(11)与一主透镜(12)。 第3B图表示根据本发明之第二实施例中之一投影 系统(M')及其光导管组件(1)之示意图。 第3C图表示入射光束经由主透镜(12)之作用前、后 之状态图。 第4A、4B图分别表示根据第1、3A图之光径示意图。 |
