| 摘要 |
<p>PROCEDIMIENTO PARA LA OBTENCION DE COMPUESTOS SENSIBLES A LA RADIACION, QUE TIENEN APLICACIONES COMO RECUBRIMIENTO PARA PLACAS LITOGRAFICAS. CONSISTE EN LA REACCION DE UN CMPUESTO QUE TIENE UN GRUPO DIAZO O UN PRECURSOR DE ESTE Y UNO O VARIOS GRUPOS -OH,-SH, NH2 O -NH-. CON UN COMPUESTO QUE TIENE UNA SERIE DE GRUPOS DIAZO CON UN ACIDO DE FORMULA HA O UNA DE SUS SALE, DE MODO QUE SE OBTIENE UN COMPUESTO QUE CONTIENE, AL MENOS, DOS GRUPOS QUE POSEEN LA ESTRUCTURA DE FORMULA (I), EN LA QUE AR ES UN RADICAL AROMATICO; X Y X'' SON 0, SO IMINO; Y ES 0 O S; R ES UN ENLACE SIMPLE O UNRADICAL Y A ES UN ANION</p> |
