| 摘要 |
Die Erfindung betrifft eine Partikelstrahlapplikationsvorrichtung zum Formen und Führen eines Partikelstrahls, umfasst einen ersten Kollimator zum Formen eines Querschnittsprofils eines in den Kollimator eintretenden Partikelstrahls, wobei der erste Kollimator eine Öffnung aufweist, die einem zu bestrahlenden Zielvolumen angepasst ist, und ein Magnetsystem zur Umlenkung des Partikelstrahls, welches im Strahlverlauf des Partikelstrahls hinter dem ersten Kollimator angeordnet ist, wobei mit dem Magnetsystem ein Magnetfeld erzeugbar ist, mit dem der Partikelstrahl spektral auffächerbar ist. Weiterhin betrifft die Erfindung eine Bestrahlungsvorrichtung mit einer derartigen Partikelstrahlapplikationsvorrichtung sowie ein Verfahren zur Führung eines Partikelstrahls, bei dem ein Partikelstrahl durch einen Kollimator an ein Zielvolumen angepasst wird und anschließend durch ein Magnetsystem gelenkt wird, wodurch der Partikelstrahl von Streustrahlung gereinigt wird.
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