发明名称 电怀炉
摘要
申请公布号 TWM365170 申请公布日期 2009.09.21
申请号 TW098209015 申请日期 2009.05.22
申请人 丽能科技股份有限公司 台北县土城市中央路3段126巷1弄5号 发明人 林正平
分类号 A61F7/08 (2006.01) 主分类号 A61F7/08 (2006.01)
代理机构 代理人 赖安国 台北市信义区东兴路37号9楼;李政宪 台北市信义区东兴路37号9楼;王立成 台北市信义区东兴路37号9楼
主权项 1.一种电怀炉,其包含:一导热片;一发热体,用以产生热能并传递予位于其上之该导热片,于该发热体上具有一半导体电热薄膜,而于该半导体电热薄膜之二侧则分别具有一电极;一壳体,系位于该发热体之下;一电源供应装置,系位于该壳体内;及一电路基板,系位于该壳体内,其与该电源供应装置及该些电极做电性连接,该电路基板上并具有控制该电源供应装置之一开关模组。2.如申请专利范围第1项所述之电怀炉,其中该导热片系为一金属材质。3.如申请专利范围第1项所述之电怀炉,其中该导热片与该发热体间涂布有散热膏。4.如申请专利范围第1项所述之电怀炉,其中该发热体为一陶瓷基材。5.如申请专利范围第4项所述之电怀炉,其中该陶瓷基材为一热敏电阻陶瓷基材。6.如申请专利范围第1项所述之电怀炉,其中该发热体藉由位于其下方之一耐热绝缘层与该壳体隔开。7.如申请专利范围第1至6项中任一项所述之电怀炉,其中该半导体电热薄膜之厚度为90~100nm。8.如申请专利范围第7项所述之电怀炉,其中该半导体电热薄膜系由锡、钒之氯化物及矽化物为主体所构成。9.如申请专利范围第8项所述之电怀炉,其中该半导体电热薄膜内含抗氧化掺杂剂。10.如申请专利范围第7项所述之电怀炉,其中该发热体为一聚对苯二甲二乙酯材料(PET)。11.如申请专利范围第7项所述之电怀炉,其中该半导体电热薄膜系面向该壳体。12.如申请专利范围第7项所述之电怀炉,其中该电源供应装置系为一充电式电池。13.如申请专利范围第12项所述之电怀炉,其中该电路基板上更具有一充电模组,用以对该充电式电池进行充电。14.如申请专利范围第13项所述之电怀炉,其中该充电模组系为一USB充电模组。15.如申请专利范围第13项所述之电怀炉,其中该充电模组上更具有一指示灯,用以指示电源之使用状况。16.如申请专利范围第7项所述之电怀炉,其中该开关模组更包含一温控模组,用以控制该发热体之最高温度。17.如申请专利范围第16项所述之电怀炉,其中该温控模组包含一温测单元,用以侦测该导热片之温度。图式简单说明:第一图为传统电暖器之使用状态图。第二图为本创作之电怀炉于实施例中之分解结构图。第三图为本创作之发热体于实施例中之结构示意图。第四图为本创作之电怀炉的组合示意图。第五图为本创作之电怀炉之剖面示意图。
地址