发明名称 利用可拆除掩模处理基板的系统和方法
摘要 本发明提供了能够利用可拆除掩模处理基板上的图案化层的装置和方法。与直接在基板上形成掩模的现有技术不同,根据本发明的各方面,掩模独立于基板而制成。在使用过程中,掩模非常接近基板或与基板接触,以便仅露出部分基板来进行处理,例如溅射或蚀刻。一旦完成处理,就将掩模从基板上移走并且该掩模可用于另一基板。掩模可以循环用于给定数量的基板,然后被移除以便清洁或丢弃。
申请公布号 CN101635253A 申请公布日期 2010.01.27
申请号 CN200910158443.2 申请日期 2009.06.30
申请人 因特维克有限公司 发明人 迈克尔·S·巴恩斯;特里·布卢克
分类号 H01L21/00(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I;G03F1/00(2006.01)I 主分类号 H01L21/00(2006.01)I
代理机构 北京康信知识产权代理有限责任公司 代理人 吴贵明
主权项 1.一种基板处理系统,包括:多个处理室;基板载体;驱动机构,使得所述基板载体能够从一个室移动到另一个室;以及掩模装载/卸载模块,用于将掩模装载到所述基板上以便遮掩位于所述基板载体上的基板的至少一部分,并用于在处理基板之后从所述基板载体上卸载所述掩模。
地址 美国加利福尼亚州