| 发明名称 |
偏光パルスＵＶを用いた光配向方法及びパターンドリターダ製造方法 |
| 摘要 |
配向膜に偏光パルスＵＶを照射して光配向層を製造する方法、並びに、第１方向に光配光された第１ドメインと、第２方向に光配光された第２ドメインとを含むパターンドリターダを製造する方法に関する。偏光パルスＵＶを用いて光配向工程時間を短縮することにより、生産性を向上させ、光配向の効率を最大化することができる。【選択図】図１ |
| 申请公布号 |
JP2016520880(A) |
申请公布日期 |
2016.07.14 |
| 申请号 |
JP20160518251 |
申请日期 |
2013.11.25 |
| 申请人 |
コリア インスティテュート オブ インダストリアル テクノロジーＫＯＲＥＡ ＩＮＳＴＩＴＵＴＥ ＯＦ ＩＮＤＵＳＴＲＩＡＬ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ |
发明人 |
シン、ギョ ジク;イ、サン グク;チェ、ギョン ホ |
| 分类号 |
G02F1/1337 |
主分类号 |
G02F1/1337 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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